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众所周知，目前所有的芯片制造，均要经过光刻这么一个工艺，所以光刻机是必不可少的半导体设备。 而光刻机与芯片的工艺是相对应的，比如EUV光刻机用于7nm及以下，DUV光刻机用于7-180nm。还有UV（i-line）光刻机，主要用于0.35um工艺。 而DUV光刻机又分为ArFi光刻机，用于45-7nm；而ArF Dry用于65nm，还有KrF用于180nm等等。
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