电子芯技术
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三星电子研究所最近的一份招聘通知中提到，将开发一种透光率为92%的EUV薄膜。此前报道显示，三星电子已经开发出透光率高达88%的EUV薄膜，而且已经可以大规模生产。EUV薄膜是半导体光刻工艺中的必备材料，它们可以作为一种覆盖物，阻止外来物质附着在掩模上，可以最大限度地减少生产过程中的缺陷并延长昂贵的掩模的寿命来帮助降低成本。然而，由于EUV光被大多数材料吸收的特性，想要商业化很困难。尽管三星电子已经提高了薄膜的技术水平，但专家们判断将这种材料大规模量产的时机还未成熟。
