回复电子PCB：高科技，也要靠积累，突破是在大量积累的基础之上的突破。中国光刻机真正研发进程，至少在投入运用之前不会对外公布，中国对该领域技术研发情况，不公开就不公开，一旦公开，必然震惊世界芯片领域。
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像尼康和佳能这两家光刻机厂商，在遭到《美日半导体协定》等法案的针对，技术遭到封锁被排除在EUV LLC联盟之外，市场份额从巅峰时期的90%一路下滑到如今仅剩10%，但是依然没有放弃。蛰伏了十几年的时间，终于找到机会开始发动对ASML的反击。 这项反击的技术就是NIL（纳米压印技术），传统的光刻机需要光源系统、物镜系统、浸没系统、光栅系统、曝光系统等等多个系统组成。其中光源系统由于EUV技术已经被EUV LLC联盟牢牢把持在手中，因此可以说EUV光刻机这条道路已经很难走通。 而选择NIL（纳米压印技术）则可以绕过EUV光源的限制，实现先进制程的芯片制造。NIL（纳米压印技术）简单理解就是通过将电路板雕刻在特殊的材质上，从而像“盖印章”一样完成芯片的制造，通过佳能公开的资料显示，这也确实是一条可行的道路。 技术遭到封锁，资金严重不足，海外市场又遭到针对甚至一度被处以100%的惩罚性关税。尼康和佳能面对的困境同样十分巨大，但是如今随着5nm光刻机的推出，它们终于看到了一丝胜利的曙光。
