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英伟达宣布突破性光刻技术软件库,将光刻提速40倍

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在英伟达GTC大会上,英伟达创始人兼CEO黄仁勋宣布了一项突破性的cuLitho计算光刻技术软件库,它将计算光刻加速40倍以上,为2nm及更先进的工艺奠定基础。cuLitho是英伟达与全球最大晶圆代工厂台积电、全球最大光刻机巨头阿斯麦、全球最大EDA巨头新思科技密切合作,秘密研发近四年的“核弹”。

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