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1、纳米压印-起离法
压印法是将阴模压印在热塑性聚合物膜上,再将该热塑性聚合物膜放在基底上,然后将温度升高,使其高于热塑性聚合物膜的玻璃化转变温度。此时,聚合物是黏流体,因此能够与阴模相吻合。所以只要控制膜的形状就可以控制所得到聚合物膜的形状。纳米压印过程结束后,拿走阴模,再用O2活性分子刻蚀法进行刻蚀,以确保压印处没有聚合物残留。然后再该表面上蒸镀一层金属,这样在压印处和未压印处均有金属,再将其浸泡在丙酮里,起离除去聚合物上的金属,就可制得纳米阵列电极。此方法已有几十年历史了。
2、等离子轰击法
取金丝置于等离子轰击仪中,根据需要,控制各种参数制得所需尺寸的金丝,将未经轰击的一端与导线相连,然后在显微操作系统中将其穿入已拉制好的毛细管玻璃种,用微操纵器控制外露部分的金丝尺寸,然后将轰击过的一端用快速环氧胶固定,在真空中封熔电极尖端。电极的尺寸可以控制,最小尖端直径可达30nm。
3、刻蚀-涂层法
首先,将金属丝用电化学或火焰烧蚀法烧蚀成锐利的尖端;其次涂上一层绝缘物(玻璃或聚合物),通过升高温度使绝缘层收缩、固化,恰好使金属丝的最尖端露出来。通过一两次重复的涂层和固化操作控制金属丝尖端的活化面积,进而得到预期的电极尺寸。
4、模板法
模板法是以一些具有特定纳米结构的物质作为模板,通过复制和转录该物质结构,从而获得具有特定纳米结构材料的方法。然后,对获得的纳米结构材料进行 处理进而制得纳米微电极。其中高分子聚合物模板和阳极氧化铝模板是比较普遍采用的两种模板。该方法通常又分为电沉积法和化学镀法,即分别采用电沉积法和化学镀的方法在模板上获得特定纳米结构材料。