回复新材料前沿潜力股：DFT理论模拟不仅验证了实验结果，还为后续研究提供了理论支持
新材料前沿潜力股
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近年来，二维材料构建的范德华异质结应用前景广阔，其中石墨烯/二硫化钼异质结整合两者优势，但精确调控纳米尺度异质结界面距离困难。近日，柏林自由大学陈鑫博士团队等合作，通过用不同官能团预功能化石墨烯底层再组装异质结，实现对石墨烯/二硫化钼界面的系统高效调控。 为确保官能团有序均匀分布，团队采用温和可控的光催化高价碘自由基反应并优化条件。原子力显微镜表征显示，随官能团增大，功能化石墨烯/二硫化钼异质结层间距离稳定增加，证明方法可靠。 与原始石墨烯不同，功能化石墨烯作底层能增强二硫化钼的光致发光（PL）信号，且增强程度与层间距离正相关。DFT理论模拟表明，功能化石墨烯可调控层间距离，界面相互作用弱，二硫化钼近乎自由悬浮，不同功能基团还通过电荷传递影响二硫化钼的n型或p型掺杂行为，进而影响其PL强度。 该研究在纳米尺度系统调节异质结层间距离，从实验和理论证明通过功能化底层材料控制异质结界面的可行性，此策略适用于半导体/金属等异质结界面调控，为改善器件性能提供新思路。
