科技之芯
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在半导体行业，想要真正地不受限于人，研发国产光刻机必然是绕不过的坎儿。
荷兰ASML掌握着全球领先的光刻机生产技术，但这家公司无法自由向我们供货，极大地限制了我国在半导体行业发展。
现在有关国产ArFi光刻机的消息已经传来了，因为就在前些时候，国望光学的超净室工程已经开标，官方明确表示，该生产基地将生产多个工艺的光学曝光系统，其中就包括28nm。
可见，28nm分辨率是ArFi光刻机的终极水平，想要达到28nm分辨率，就必须解决透镜光学系统这道难关，但现在国望光学已经取得了突破，意味着掌握了业界领先的技术。
