回复工业那些事：华海清科的研发团队确实有两下子，期待他们更多的创新成果
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12月23日，华海清科称其化学机械抛光（CMP）装备含自主研发的清洗模块，相关清洗装备已批量用于晶圆再生生产，部分尺寸的刷片清洗装备和12英寸单片终端清洗机已首台验收。 华海清科2013年4月成立，是半导体设备制造商，主营半导体专用设备研发、产销及技术服务，主产品为CMP设备。今年2月1日，“华海清科集成电路高端装备研发及产业化项目”在北京市亦庄举行封顶仪式，项目规划建筑面积约70000平方米，总投资额8.2亿元，建成后用于高端半导体设备研发及产业化，推动多种半导体设备研发生产。 CMP是半导体制造中重要的表面平坦化技术，广泛应用于晶圆制造等流程。 此外，浙江博来纳润位于衢州智造新城高新片区的107亩生产基地二期项目于今年8月3日开工建设，待二期建成与一期共同发力，博来纳润将实现在衢州布局34000吨半导体CMP抛光液的目标。
