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光刻胶剥离液有哪些应用领域？ 在大规模集成电路制造过程中，光刻胶剥离液已被广泛用作生产线清洗剂。在制作过程中，光刻胶膜经过高温烘烤，沉积在ITO玻璃表面，然后曝光、显影、刻蚀，形成电路图案。安吉工艺的刻蚀工艺结束后，必须在不损伤ITO和玻璃基板的情况下，将曝光的光刻胶从电路图形表面去除，以便进行后续操作。
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青天
