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广东工业大学材料与能源学院 杨东朋/黄少铭 教授团队发展了一种界面刻蚀诱导“SiO2/聚合物”胶体光子晶体溶胀新机制，成功制备出具有大晶面间距的MPC材料。与之前报道的MPCs相比，本工作制备的MPC具有灵敏度高（106.9 nm/kPa或3.7 nm/%），响应速度快（11.3 nm/ms），波长调节范围大（340 nm）等优点。这些
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