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近日,华东理工大学王际童、乔文明团队针对在实际应用中,石墨烯切模不可避免地会产生大量具有高 K 值的废料的二次利用取得新进展。 研究首先利用聚多巴胺(PDA)对粉碎的大尺寸石墨纳米片(GNs)粉末下脚料进行表面改性,得到GNs@PDA。然后将 GNs@PDA 与氧化石墨烯(GO)片混合,通过自组装制备出石墨烯/GNs@PDA(G/PG)复合薄膜。石墨化后,石墨化的 PDA 通过共价键将 GNs 与衍生的石墨烯 "焊接 "在一起。由此产生的长程有序无缺陷层状堆叠结构有效地促进了声子和电子的传递,从而显著提高了 G/PG 薄膜的 K 值和导电性。