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新戈里察大学Manisha Chhikara等人在ACS Omega (https://doi.org/10.1021/acsomega.3c03174)上发表论文，使用原子力显微镜，他们探测了并五苯分子在石墨烯上的生长，石墨烯通过化学气相沉积制备并转移到300nm厚的SiO2衬底上。 这种石墨烯的形貌具有两个重要性质。 首先，它的表面由具有不同取向的褶皱组成，其次，它有几个多层石墨烯区域分布在单层石墨烯表面上。在这种折叠的石墨烯特征上，他们真空蒸发并五苯，并观察到平均高度为~15 nm的三维岛。它们的取向与褶皱平行或垂直，并且它们也主要沿着石墨烯的对称轴取向。室温蒸发石墨烯上并五苯岛的取向分布较广。相反，大多数在60°C下蒸发的并五苯岛相对于褶皱方向的取向为30°。观察到褶皱作为并五苯分子表面传输的潜在屏障。此外，他们根据接触角测量研究的石墨烯表面能的极性成分减少来解释石墨烯上并五苯岛的3D生长。
